"1.技术问题：
光学均匀性、应力双折射、透过率、耐激光辐照是光刻物镜的核心指标，影响光刻精度和光刻系统的稳定性及可靠性；需开发高均匀控制技术、应力控制技术、超低金属杂质含量控制技术、缺陷控制技术和渗氢技术。其次，加工关键指标平坦度（TIR）、表面粗糙度、表面颗粒含量直接影响光刻质量。需要攻克高表面质量技术，实现平坦度和表面粗糙度的降低；需要攻克超洁净清洗技术，去除表面颗粒；需要攻克高效加工技术，实现加工成本的降低。
2.预期达到的目标：
（1）光学均匀性：≤1ppm；
（2）内透过率：≥99.5%/10mm@193nm；
（3）应力双折射：≤1nm/cm；
（4）气泡/包裹体：≤0.03mm2/100cm3；
（5）条纹（3D）：无可见条纹；
（6）杂质总含量：≤10ppb；
（7）长期耐辐照吸收变化：≤1ppm/cm；
（8）氢分子含量：≥1*1016/cm3；
（9）平坦度：≤1μm；
（10）表面粗糙度：≤0.3nm；
（11）表面颗粒：≥0.5μm，≤10pcs。"