"1.技术问题:
光学均匀性、应力双折射、透过率、耐激光辐照是光刻物镜的核心指标,影响光刻精度和光刻系统的稳定性及可靠性;需开发高均匀控制技术、应力控制技术、超低金属杂质含量控制技术、缺陷控制技术和渗氢技术。其次,加工关键指标平坦度(TIR)、表面粗糙度、表面颗粒含量直接影响光刻质量。需要攻克高表面质量技术,实现平坦度和表面粗糙度的降低;需要攻克超洁净清洗技术,去除表面颗粒;需要攻克高效加工技术,实现加工成本的降低。
2.预期达到的目标:
(1)光学均匀性:≤1ppm;
(2)内透过率:≥99.5%/10mm@193nm;
(3)应力双折射:≤1nm/cm;
(4)气泡/包裹体:≤0.03mm2/100cm3;
(5)条纹(3D):无可见条纹;
(6)杂质总含量:≤10ppb;
(7)长期耐辐照吸收变化:≤1ppm/cm;
(8)氢分子含量:≥1*1016/cm3;
(9)平坦度:≤1μm;
(10)表面粗糙度:≤0.3nm;
(11)表面颗粒:≥0.5μm,≤10pcs。"
技术领域 | 电子信息 | 需求类型 | 关键技术研发 | 有效期至 | 2024-12-31 |
合作方式 | 合作开发 | 需求来源 | | 所在地区 | |