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本发明公开了一种提高日本矮生沿阶草种子发芽率的方法,该方法是通过先对日本矮生沿阶草种子进行低温层积处理,然后用H<Sub>2</Sub>O<Sub>2</Sub>溶液或K<Sub>2</Sub>MnO<Sub>4</Sub>溶液中浸泡,再在赤霉素溶液中浸泡,然后将处理后的种胚在25℃恒温培养箱中14h/d光照下培养10~15天。利用H<Sub>2</Sub>O<Sub>2</Sub>溶液、K<Sub>2</Sub>MnO<Sub>4</Sub>溶液、赤霉素溶液对日本矮生沿阶草种子浸种处理,将日本矮生沿阶草种子的发芽率提高到80%~98%。
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